특허청은 디자인보호법 시행규칙 일부개정령을 2.12.(수)부터 시행한다고 밝혔다.
- 이번 개정은 ▲진정한 창작자 기재를 위한 창작자 정정 제도 개선, ▲국가 연구개발(R&D) 연구 성과 기재 서식 개선 등을 주요 내용으로 하고 있다.
- 창작자 정정 제도 개선 : 심사관의 심사 절차가 끝난 이후에 창작자가 아닌 사람을 창작자로 추가하는등의 악용을 방지하기 위해 창작자 정정제도를 개선하였음.
- 진정한 창작자를기재하도록 하기 위하여, ①심사가 완료된 경우 창작자 정정을 일부 제한하고, ②설정등록 이후에만 요구되었던 증명서류를 심사관의 심사 절차 중에도 제출하도록 한 것임.
- 국가 연구개발(R&D) 관련 출원 서식 정비 : 이번 개정에서는 국가 연구개발(R&D) 디자인 성과 관리와 관련된 기재 사항을 정비하고 주의 사항을 추가하여 국가 연구개발(R&D) 디자인 성과 관리의 효율성을 높였음.