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반도체 통합허가 기준서 개정 위해 국립환경과학원·산업계 협업
환경부 소속 국립환경과학원은 3.26.(수) 오후 에스케이(SK) 하이닉스 반도체 사업장(경기도 이천시 소재)에서 올해 12월 공개 예정인 반도체제조업 2기 최적가용기법 기준서 마련을 위한 기업 현장 간담회를 개최한다고 밝혔다.
- 반도체제조업 1기 최적가용기법 기준서는 2019년에 발간되었으며, 이를 바탕으로 지난해(2024년) 12월에 반도체, 웨이퍼, 발광다이오드, 태양광전지 등 반도체 소자를 만드는 총 40개 사업장에서 통합허가를 받았음.
- 초안기준서는 기술작업반(TWG)회의를 거쳐 최종안이 마련되고 올해 6월 중앙환경정책위원회 심의 이후 12월 말에 배포되어 허가재검토 등에 적용되었음.
- 반도체 업계와 지속적인 소통과 협업을 통해 최적가용기법 기준서가 국내뿐 아니라 통합허가를 시행하는 전 세계에서유용하게 활용되고 최신 기술도 반영될 수 있도록 기준서 마련에 최선을 다하겠다고 함.
<붙임>
1. 반도체제조업 1기 기준서 주요 내용
2. 온실가스 분해 시설(POU 스크러버)
3. 전문용어 설명
- 반도체제조업 1기 최적가용기법 기준서는 2019년에 발간되었으며, 이를 바탕으로 지난해(2024년) 12월에 반도체, 웨이퍼, 발광다이오드, 태양광전지 등 반도체 소자를 만드는 총 40개 사업장에서 통합허가를 받았음.
- 초안기준서는 기술작업반(TWG)회의를 거쳐 최종안이 마련되고 올해 6월 중앙환경정책위원회 심의 이후 12월 말에 배포되어 허가재검토 등에 적용되었음.
- 반도체 업계와 지속적인 소통과 협업을 통해 최적가용기법 기준서가 국내뿐 아니라 통합허가를 시행하는 전 세계에서유용하게 활용되고 최신 기술도 반영될 수 있도록 기준서 마련에 최선을 다하겠다고 함.
<붙임>
1. 반도체제조업 1기 기준서 주요 내용
2. 온실가스 분해 시설(POU 스크러버)
3. 전문용어 설명
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