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반도체 공정 핵심 EUV 장비, 국내 도입 최대 25일 빨라진다.
산업통상부 산업자원안보실 자원산업정책관 자원안전팀
2026.06.02 7p
산업통상부는 ’26.6.2.(화) 반도체 공정에 사용되는 EUV(극자외선) 장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화하는 「고압가스 안전관리법 시행령」 일부개정안이 국무회의에서 의결됐다고 밝혔다.

- 해당 개정으로 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 기존 ‘고압가스 일반제조시설’이 아닌 ‘특정설비’ 기준이 적용되어, 삼성전자·SK하이닉스 등 국내 반도체 기업의 EUV 장비 도입 시 검사 소요기간이 34일에서 9일로 최대 25일 단축될 것으로 전망됨.

- 이번 제도 개선을 통해 EUV 장비 도입 기간 단축과 함께 해외 공인검사기관 내압·기밀 검사비용이 장비당 약 5억원 절감되어 국내 반도체 기업들이 첨단 제조장비를 적기에 도입하고 신속히 가동함으로써 반도체 산업의 초격차 유지에 기여할 것으로 기대됨.

- 아울러, 시행규칙 개정도 병행하여 EUV 장비뿐만 아니라 친환경 액화 이산화탄소 세정설비 도입 지원 및 위험성이 낮은 고압가스시설의 안전관리자 선임기준 현실화 등 현장 수요에 맞춘 규제합리화 내용도 포함함.

- 산업통상부는 본 개정안을 차주 중 공포 후 즉시 시행하고, 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원해 나갈 계획임.

<참고>
1. 「고압가스 안전관리법 시행령」 일부개정령안 주요내용
2. 「고압가스 안전관리법 시행규칙」개정안 주요내용
3. 반도체 제조용 EUV 노광장비 개요