산업통상부는 ’26.6.2.(화) 반도체 공정에 사용되는 EUV(극자외선) 장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화하는 「고압가스 안전관리법 시행령」 일부개정안이 국무회의에서 의결됐다고 밝혔다.
- 해당 개정으로 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 기존 ‘고압가스 일반제조시설’이 아닌 ‘특정설비’ 기준이 적용되어, 삼성전자·SK하이닉스 등 국내 반도체 기업의 EUV 장비 도입 시 검사 소요기간이 34일에서 9일로 최대 25일 단축될 것으로 전망됨.
- 이번 제도 개선을 통해 EUV 장비 도입 기간 단축과 함께 해외 공인검사기관 내압·기밀 검사비용이 장비당 약 5억원 절감되어 국내 반도체 기업들이 첨단 제조장비를 적기에 도입하고 신속히 가동함으로써 반도체 산업의 초격차 유지에 기여할 것으로 기대됨.
- 아울러, 시행규칙 개정도 병행하여 EUV 장비뿐만 아니라 친환경 액화 이산화탄소 세정설비 도입 지원 및 위험성이 낮은 고압가스시설의 안전관리자 선임기준 현실화 등 현장 수요에 맞춘 규제합리화 내용도 포함함.
- 산업통상부는 본 개정안을 차주 중 공포 후 즉시 시행하고, 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원해 나갈 계획임.
<참고>
1. 「고압가스 안전관리법 시행령」 일부개정령안 주요내용
2. 「고압가스 안전관리법 시행규칙」개정안 주요내용
3. 반도체 제조용 EUV 노광장비 개요